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請(qǐng)教各位同仁,乙丙絕緣含膠量30%左右,絕緣電阻上不去,是含膠量過(guò)低的原因嗎?
另外,做小平方線(xiàn)的時(shí)候,硫化速度上不去,硫化曲線(xiàn)調(diào)整到什么程度合適?我們現(xiàn)在做的165度曲線(xiàn),T10 1:30;T90 9:00
我們現(xiàn)在只能做到每分鐘15米左右,再快就欠硫。。。
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估計(jì)要你完整的配方才好說(shuō)
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硫化慢的問(wèn)題比較好解決的,調(diào)整硫化體系就可以做到
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我們cpe+epdm絕緣膠,做1.5mm2還行,做0.75mm2表面有白點(diǎn)、有針隙,高壓擊穿很多。
請(qǐng)問(wèn)是啥原因?
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要想押線(xiàn)速度快,最好是提高含膠量,線(xiàn)做得軟一點(diǎn)。關(guān)于白點(diǎn),有可能是氧化鎂和氫氧化鎂、滑石粉等顆粒不均或成團(tuán)造成的。最好是濾膠,還有密煉時(shí)間要長(zhǎng)一點(diǎn)好,最好是在開(kāi)練加母膠的。
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hebaicheng:
估計(jì)要你完整的配方才好說(shuō)
硫化體系為DCP 4.5phr;TAIC 1.5(70%)
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zmlhb:
你的硫化體系在大線(xiàn)時(shí)已炸口吧
這個(gè)配方?jīng)]有做過(guò)大線(xiàn),硫化劑用量大只是針對(duì)做小平方線(xiàn)要求較高的擠出速度做的調(diào)整,做大線(xiàn)時(shí)炸口的問(wèn)題我們還沒(méi)有遇到過(guò)。。。
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30%含膠率可以了,絕緣電阻上不去,與硫化完全充分也有關(guān)系.主要填料避免吸潮.
硫化曲線(xiàn)我們看硫化時(shí)間,還要看力矩大小.時(shí)間合適力矩小硫化也不好.
DCP的量我認(rèn)為偏高,TAIC不如TAC效果好.
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小學(xué)生:
30%含膠率可以了,絕緣電阻上不去,與硫化完全充分也有關(guān)系.主要填料避免吸潮.
硫化曲線(xiàn)我們看硫化時(shí)間,還要看力矩大小.時(shí)間合適力矩小硫化也不好.
DCP的量我認(rèn)為偏高,TAIC不如TAC效果好.
我也有這方面考慮,擠線(xiàn)試驗(yàn)時(shí)絕緣電阻上不去,我看了一下,硫化不好,粘線(xiàn)芯。硫化曲線(xiàn)同高含膠率的配方比,MH確實(shí)低些,如果要硫化的現(xiàn)充分些,硫化劑量應(yīng)如何調(diào)整,單純調(diào)整DCP以及TAIC的用量覺(jué)得沒(méi)有太大成效,是否需要硫化活性劑如黃丹,氧化鋅上做些調(diào)整,我現(xiàn)在這兩種都加了5phr。
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我EPDM 的橡膠 最少做到 35 如果你 機(jī)械性能沒(méi)問(wèn)題 應(yīng)該可以,電性能不好,填料的問(wèn)題吧,我現(xiàn)在都用硅烷處理煅燒陶土,絕緣電阻 小線(xiàn) 一公里都要到 4000M歐了,如果你用 滑石粉,就會(huì)差,如果你用碳酸鈣那就更差,如果你加了沉淀法白炭黑,那就很差了
至于你的速度 我很不理解 ,你的DCP 用的太多了,一般的用量是 3份,當(dāng)然這個(gè)要看膠和你的防老體系
我現(xiàn)在不知道為什么 DCP 用的很少 不到 2分 當(dāng)然 TAIC 用的多了點(diǎn)
你的硫化 壓力和溫度很低嗎>為什么 我們的 T90 都 15分左右 我們開(kāi)到 20-30米都沒(méi)問(wèn)題 ,而且我們的設(shè)備不怎么樣所以很慢,溫度只能開(kāi)到185,正常的溫度都是開(kāi)到200 ,那樣一分鐘 60-100米如果設(shè)備吃得消都沒(méi)問(wèn)題
如果斷裂伸長(zhǎng)率允許 TAIC 多加點(diǎn) 可以縮短 硫化時(shí)間
又看了下你的帖子 黃丹我沒(méi)用過(guò),氧化鋅用到 5份就OK 了吧
還有 你的油和防老劑是不是影響了你的 硫化體系,MH 的高度 2.0 左右 就可以,太高了斷裂伸長(zhǎng)率可能不夠,太低了交聯(lián)度不夠
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babalala:
我EPDM 的橡膠 最少做到 35 如果你 機(jī)械性能沒(méi)問(wèn)題 應(yīng)該可以,電性能不好,填料的問(wèn)題吧,我現(xiàn)在都用硅烷處理煅燒陶土,絕緣電阻 小線(xiàn) 一公里都要到 4000M歐了,如果你用 滑石粉,就會(huì)差,如果你用碳酸鈣那就更差,如果你加了沉淀法白炭黑,那就很差了
至于你的速度 我很不理解 ,你的DCP 用的太多了,一般的用量是 3份,當(dāng)然這個(gè)要看膠和你的防老體系
我現(xiàn)在不知道為什么 DCP 用的很少 不到 2分 當(dāng)然 TAIC 用的多了點(diǎn)
你的硫化 壓力和溫度很低嗎>為什么 我們的 T90 都 15分左右 我們開(kāi)到 20-30米都沒(méi)問(wèn)題 ,而且我們的設(shè)備不怎么樣所以很慢,溫度只能開(kāi)到185,正常的溫度都是開(kāi)到200 ,那樣一分鐘 60-100米如果設(shè)備吃得消都沒(méi)問(wèn)題
如果斷裂伸長(zhǎng)率允許 TAIC 多加點(diǎn) 可以縮短 硫化時(shí)間
又看了下你的帖子 黃丹我沒(méi)用過(guò),氧化鋅用到 5份就OK 了吧
還有 你的油和防老劑是不是影響了你的 硫化體系,MH 的高度 2.0 左右 就可以,太高了斷裂伸長(zhǎng)率可能不夠,太低了交聯(lián)度不夠
非常感謝你的回帖,對(duì)我有很大幫助。
我們的硫化壓力并不低,在1.1~1.2MP a;但是感覺(jué)還是有些欠硫,有朋友認(rèn)為硫化不足導(dǎo)致絕緣電阻低,但我覺(jué)得你說(shuō)的是對(duì)的,我做小樣試驗(yàn)驗(yàn)證過(guò)了;
我也是感覺(jué)油加多了,從而大大影響了硫化速度;
您說(shuō)的T90為15分鐘,溫度和試驗(yàn)時(shí)間是多少,我做的曲線(xiàn)是165度20分鐘;
MH我的只能做1.5左右,含膠量提高后能上來(lái);
DCP我一般只用到2.8份,是為了提高T90,所以才加量,但我的TAIC用量一直很小的,只有1.5(70%),我做一下增量試驗(yàn)吧。
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感謝大家,我的問(wèn)題解決了。
我的硫化體系最后調(diào)整為DCP 4。5; TAIC(70):3。5;含膠量:30%
硫化速度1MPa能達(dá)到近30米,絕緣電阻已升至3500。
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