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衰減
總衰減=金屬衰減+介質(zhì)衰減+阻抗不均勻時(shí)反射引起的附加衰減
高頻下同軸電纜的衰減:
α=2.61*(f*ε)^0.5*(K2*Kρ1/d+Kb*Kρ2/D)*10^(-3)/lg((D+1.5*dw)/(K1*d))+9.10*f*ε^0.5*tgδ*10^(-5)(分貝/公里)
f:頻率(Hz) ε:絕緣相對(duì)介電常數(shù)(實(shí)心PE - 2.3;PVC - 5~7;Nylon - 3.5;Paper - 2.0~2.6;PP - 2.6;FEP - 2~2.2;空氣 - 1.0) D:絕緣外徑(mm) d:內(nèi)導(dǎo)體直徑(mm) tgδ:絕緣介質(zhì)損耗角正切值(空氣 - 0;PE - 0.0005;PVC - 0.05;FEP - 0.0002;Nylon - 0.009;PP - 0.0007) K1:內(nèi)導(dǎo)體直徑系數(shù) K2:內(nèi)導(dǎo)體衰減的絞線系數(shù) Kb:外導(dǎo)體為編織是引起高頻電阻增大的編織效應(yīng)系數(shù) = 1.5+0.083*D Kρ1:內(nèi)導(dǎo)體相對(duì)于國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)軟銅的高頻電阻增大或減小的系數(shù) Kρ2:外導(dǎo)體相對(duì)于國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)軟銅的高頻電阻增大或減小的系數(shù) dw:編織用導(dǎo)線直徑(mm)
第一項(xiàng)為金屬損耗造成的衰減,第二項(xiàng)為介質(zhì)損耗造成的衰減,頻率超過(guò)幾兆赫時(shí)不大于總衰減的1%。
當(dāng)頻率超過(guò)幾十兆赫時(shí),導(dǎo)體表面發(fā)生氧化會(huì)產(chǎn)生一種新的損耗--視在介質(zhì)損耗,氧化層很。s幾微米),頻率低時(shí)(幾兆赫以下),電流透入深度(見(jiàn)相關(guān)帖子)有幾十微米,電流在氧化層流通的部分較小,氧化產(chǎn)生的影響不大;但頻率高于幾十兆赫時(shí),投入深度較小,大部分電流在氧化層傳輸,氧化層的電阻率大于導(dǎo)體,使衰減增大,因此要盡可能的消除金屬氧化。
[hansen 在 2007-12-19 17:10:30 編輯過(guò)]
